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在現(xiàn)代精密制造、科研實(shí)驗(yàn)以及高技術(shù)產(chǎn)業(yè)領(lǐng)域，對(duì)材料表面潔凈度與活性的要求日益嚴(yán)苛。傳統(tǒng)的清洗方式，如溶劑清洗、超聲波清洗等，雖然在一定程度上能夠去除表面污垢，但...
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在現(xiàn)代工業(yè)制造中，材料表面處理至關(guān)重要，直接影響產(chǎn)品性能、質(zhì)量和使用壽命。等離子清洗機(jī)作為先進(jìn)的表面處理設(shè)備，正發(fā)揮著越來越重要的作用。近年來，國(guó)產(chǎn)等離子清洗機(jī)發(fā)展迅速，技術(shù)不斷突破，逐漸在市場(chǎng)上嶄露頭角。一、等離子清洗機(jī)的工作原理等離子體，常被稱為物質(zhì)的第四態(tài)，它既非傳統(tǒng)的固態(tài)、液態(tài)，也不是氣態(tài)。當(dāng)氣體在特定條件下，如高溫、強(qiáng)電場(chǎng)等，氣體分子會(huì)被電離，形成包含離子、電子、中性原子和自由基等高度活性粒子的集合體，這便是等離子體。等離子清洗機(jī)正是巧妙利用等離子體的這些活性成分，...
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等離子清洗特點(diǎn)是不分處理對(duì)象的基材類型，均可進(jìn)行處理，對(duì)金屬、半導(dǎo)體、氧化物和大多數(shù)高分子材料等都能很好地進(jìn)行超清洗。
圖為PLUTO-T等離子清洗機(jī)對(duì)陶瓷基板上銀氧化層的清洗實(shí)例。
等離子清洗機(jī)可用于晶圓或者電路板表面的光刻膠去除，以及去除光學(xué)元件、半導(dǎo)體元件表面的光阻材料等。
圖為PLUTO-MD等離子去膠機(jī)對(duì)PCB板和硅片的去膠實(shí)例。
改善粘合力-用于光學(xué)元件、生物醫(yī)學(xué)、封裝領(lǐng)域等；
表面改性-用于高分子材料表面修飾、PDMS微流控芯片鍵合、玻璃等，增強(qiáng)表面粘附性、浸潤(rùn)性、相容性；
圖為PLUTO-M對(duì)線路板、橡膠管和手機(jī)膜的表面改性實(shí)例。
等離子刻蝕是干法刻蝕中常見的一種形式，其原理是暴露在電子區(qū)域的氣體形成等離子體，電離氣體原子通過電場(chǎng)加速時(shí)，會(huì)釋放足夠的力量與表面驅(qū)逐力緊緊粘合材料或蝕刻表面。
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