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合作案例

清華大學采購PLUTO-T等離子清洗機清華大學調(diào)研了眾多等離子表面處理設(shè)備，最終選擇了上海沛沅生產(chǎn)的Pluto-T等離子清洗機/表面處理機。根據(jù)客戶的技術(shù)要求，提供了可以滿足老師所有技術(shù)參數(shù)要求的Pluto-T等離子清洗機/表面處理機，以下為該設(shè)備的安裝調(diào)試圖。
上海交大采購PLUTO-MC沉積鍍膜設(shè)備 2020年12月，上海交通大學采購我司PLUTO-MC沉積鍍膜設(shè)備。該設(shè)備采用13.56MHz射頻，涂覆面積為150*150mm，具備良好的穩(wěn)定性與可重復性。
電子科技大學采用Pluto-MD等離子去膠機進行晶圓去膠電子科技大學已采購多臺等離子設(shè)備，包括PLUTO-T等離子清洗機，PLUTO-MD等離子去膠機等，用戶反饋良好。主要涉及的應用有：晶圓光刻膠的去除、電子半導體樣品表面有機物的去除、多功能微納結(jié)構(gòu)寬帶吸收器的表面處理等等。

新聞中心

企業(yè)新聞| CORPORATE NEWS

: 臺式真空等離子清洗機的工作原理與應用價值

在現(xiàn)代精密制造、科研實驗以及高技術(shù)產(chǎn)業(yè)領(lǐng)域，對材料表面潔凈度與活性的要求日益嚴苛。傳統(tǒng)的清洗方式，如溶劑清洗、超聲波清洗等，雖然在一定程度上能夠去除表面污垢，但...
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技術(shù)文章| Technical articles

: 等離子去膠機的選擇要素可分為以下幾點

等離子去膠機是半導體、電子制造及材料科學領(lǐng)域中用于去除表面有機殘留(如光刻膠、聚合物)的關(guān)鍵設(shè)備，其核心原理是通過等離子體中的活性粒子與材料表面發(fā)生化學反應或物理轟擊，實現(xiàn)高效、無損傷的清潔。選擇合適的設(shè)備需綜合評估處理需求、樣品特性、操作效率及長期使用成本，以下從核心要素展開分析。一、明確處理需求與目標等離子去膠機的選擇依據(jù)是處理對象的特性與目標。用戶需先明確以下問題：污染物類型：若需去除光刻膠、抗反射層等有機物，需選擇氧等離子體設(shè)備，其活性氧離子可高效分解碳鏈結(jié)構(gòu)；若為金...
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應用案例

01 等離子清洗
等離子清洗特點是不分處理對象的基材類型，均可進行處理，對金屬、半導體、氧化物和大多數(shù)高分子材料等都能很好地進行超清洗。

圖為PLUTO-T等離子清洗機對陶瓷基板上銀氧化層的清洗實例。
02 等離子去膠
等離子清洗機可用于晶圓或者電路板表面的光刻膠去除，以及去除光學元件、半導體元件表面的光阻材料等。

圖為PLUTO-MD等離子去膠機對PCB板和硅片的去膠實例。
03 等離子活化改性
改善粘合力-用于光學元件、生物醫(yī)學、封裝領(lǐng)域等；
表面改性-用于高分子材料表面修飾、PDMS微流控芯片鍵合、玻璃等，增強表面粘附性、浸潤性、相容性；

圖為PLUTO-M對線路板、橡膠管和手機膜的表面改性實例。
04 等離子刻蝕
等離子刻蝕是干法刻蝕中常見的一種形式，其原理是暴露在電子區(qū)域的氣體形成等離子體，電離氣體原子通過電場加速時，會釋放足夠的力量與表面驅(qū)逐力緊緊粘合材料或蝕刻表面。

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